• 首页
      • 关于我们
      • 公司特点
      • 产品中心
      • 开放实验室
      • 招贤纳士
      • 客户留言
      • 联系我们
      • 相关内容
      • 工艺实验室
      • 工艺服务
      • 工艺成果
        • 工艺成果
            ★ 溅射工艺成果
          声表面波器件Al、ZnO薄膜
          纳米级超薄薄膜
          反射率大于90%的厚Al膜
          小于0.1mm的小孔内壁溅射
          粘附性好的10μmNiCr厚膜
            ★ 淀积工艺成果
          抗KOH腐蚀的Si3N4
          低应力Si3N4
          绝缘性良好的SiO2、Si3N4、SiC
          非晶硅、多晶硅、类金刚石
            ★ 光刻工艺成果
          小于0.1μm的刻蚀
          硅、新材料深刻蚀
          金属膜的刻蚀
          Ⅲ-V族化合物的刻蚀