本产品通过物理与化学相结合的方法，对很细的线条（亚微米以下）进行刻蚀以形成精细的图形。本设备具有选择比较好、刻蚀速度较快、重复性好、性价比较高等特点。可刻蚀的材料主要有Poly-Si、Si、SiO、SiN、W、Mo、GaN、GaAs、Al等。

本设备主要用于微电子、光电子、通讯、微机械、新材料、能源等领域的器件研发和制造。

型号	RIE-1D	RIE-2D
真空系统	分子泵机组
刻蚀室数量	单室	双室
样片尺寸	ø5英寸
刻蚀材料	Poly-Si、Si、SiO、SiN、W、Mo、GaN、GaAs、Al等
刻蚀速率	0.1～2μ/min（与刻蚀材料和工艺有关）
刻蚀不均匀性	≤±5%
控制方式	手动