本产品可在硅片、塑料、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物及金属等材料表面镀制Al、Au、Cr、Ti、Ni、Cu、W、SiO、各种金属、非金属，单层、多层膜。它具有均匀性好、溅射速率高、基片升温低、附着力强等特点。

本产品广泛应用于微电子、光电子、通讯、微机械、新材料、能源等领域的器件研发和制造。

型号	SP3-100B/SP4-150B
真空系统	分子泵机组
溅射靶规格	ø100mm、ø150mm
溅射数量	3靶、4靶
溅射不均匀性	≤ ±5%
样品台	可旋转、可定位、转速连续可调
载片量	2英寸12片；3英寸8片（SP3-100B) 4英寸12片；6英寸8片（SP4-150B)
溅射方式	定靶溅射，旋转溅射
溅射形式	垂直溅射
膜层结构	单层膜、多层膜、合金膜等
金属薄膜制备	DC溅射方式生长、RF溅射方式生长
氧化物薄膜制备	反应溅射方式生长、RF溅射方式生长
磁性薄膜制备	可选
样品加热	可选
膜厚在线监测	可选
控制方式	手动