ITO 是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡，ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜，通常有两个性能指标：电阻率和透光率。

PVD基本方法：真空蒸发、溅射 、离子镀（空心阴离子镀、热阴离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀），以下介绍几种常用的方法。

常用真空术语：1.标准环境条件 standard ambient condition： 温度为20℃，相对湿度为65%，大气压力为101325Pa=1013.25mbar=760Torr。

溅射镀膜是指在真空室中，利用荷能粒子轰击靶材表面，通过粒子动量传递打出靶材中的原子及其它粒子，并使其沉淀在基体上形成薄膜的技术。溅射镀膜技术具有可实现大面积快速沉积，薄膜与基体结合力好，溅射密度高、针孔少，膜层可控性和重复性好等优点，而且物质都可以进行溅射，因而近年来发展迅速，应用广泛。

在PVD实际中，你是否遇到过开靶点不起来，需要充入更多的工作气体或多关闭高阀才能正常点靶，是否遇到在辉光清洗时，产品“打火”，烧蚀坏产品的情况。其实这些都与气体的放电有关，下面就聊聊与PVD相关的几种放电类型。

我们看到一个物体，首先感到是它的颜色。物质的颜色是由人眼视觉看得到的。如果在没有光线的密闭的暗室中，或在漆黑的夜里，物体的颜色是看不见的。只有在光照下，物质的颜色才能为肉眼所见，所以我们说颜色是光和眼睛相互作用而产生的。事实上，颜色是大脑对投射在视网膜上不同性质光线进行辨认的结果。