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反应离子刻蚀机

RIE-400型:去胶+修胶+刻蚀,针对大尺寸片状样品

名称:RIE-400型:去胶+修胶+刻蚀,针对大尺寸片状样品

详细信息


应用方向:批量生产

产品优势:去胶+修胶+刻蚀,针对大尺寸片状样品

产品配置:

样片数量及尺寸:1片450mm×450mm样片

刻蚀材料:包括并不限于Si、SiOx、SiNx、部分金属(如W、Mo)、聚合物等

刻蚀腔体:高真空系统

刻蚀不均匀性:±3%-±6%

刻蚀速率:0.1-4μm/min(视具体材料与工艺)

工作台:包含水冷

电源配置:上下两个射频电源,包含自动匹配

气路数量与种类:6路耐氟基腐蚀气路 或 用户选配

He冷背吹系统:可选配

终点检测控制:可选配质谱仪

操作模式:全自动+半自动控制

类似产品:大样品刻蚀(ICP-1200)

设备详细结构与功能,请咨询销售工程师。

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