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DISC-SP-400C:OSR薄膜制备

名称:DISC-SP-400C:OSR薄膜制备

详细信息

应用方向:OSR薄膜制备

产品优势:垂直溅射多片大尺寸片状样品

产品配置:

样片数量及尺寸:4片φ14.5英寸样片 或 192片40mm*40mm样片

溅射材料:OSR薄膜;金属;半导体;介质;金属化合物等薄膜材料。

溅射腔体:高真空系统。

溅射不均匀性:≤±3%-±5%

磁控靶:3支φ8英寸

溅射方向:样品下置(自上而下溅射)

样品台旋转:公转同时自转

加热:常规加热

电源配置:射频;直流;直流脉冲;中频;直流偏压

清洗功能:可选配考夫曼离子源、射频离子源

快速反应溅射功能:可选配Speedflo

膜厚监控功能:可选配晶控膜厚在线监测与终点控制

精密光学膜系统:可选配

操作模式:全自动+半自动控制

类似产品:MSP-3100

设备详细结构与功能,请咨询销售工程师。

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