北京创世威纳科技有限公司
Beijing Chuangshiweina Technology Co., LTD.
发展历程
- 创世威纳制造设备，Discovery系列产品陆续推向市场。
- 创世威纳在多项军事高科技技术领域作为主要设备制造商。
- 2019
- 截至2018年，创世威纳12款设备在11个国防科技、科技前沿项目制造中，作为设备供应商或主要供应商。
- 截至2018年，获得4项发明，十余项实用新型，获批高新技术企业。
- 客户数量超过300家。销售设备超过500台。出场设备超过450台。实现合同额超过3亿元。
- 2018
- 国内同行业个商用22cm大口径考夫曼离子源研发成功，配套离子束刻蚀机投入市场。
- 国内同行业个商用16cm大口径射频离子源研发成功，配套反应离子束刻蚀机投入市场。
- 国内首台4英寸原位对准静电晶圆键合机研发成功并投入市场。
- 2015-2016
- 公司在2010年-2011年连续两年实现合同翻番，掀起次销售风暴。
- 2011年-2013年新的核心团队逐步建立，带领公司稳定前进。
- 2010-2011
- 2018.8.18 8:08 创世威纳告别清河龙岗路27号老厂区。入驻昌平区北京国际信息产业园高新二街2号4层新厂区。
- 创世威纳成立十周年大型庆典活动，150余名各界专家、代表参会。公司制定适合于制造的人才战略，产品战略，市场战略。
- 2018
- 国内首台450mm*450mm大面积高均匀度纳米压印胶模板刻蚀机研发成功并投入市场。
- 国内首台200mm*400mm大口径高均匀度闪耀光栅刻蚀机研发成功并成功投入市场。
- 2016-2017
- 台12英寸PECVD、ICP、RIE设备研发成功并投入市场，在国内处于地位。
- 2011年自动化软件新系列逐步成熟，国内真空等离子体设备自动化控制市场。
- 2012年全系列大尺寸异形工件镀膜设备研发成功并投入市场。
- 2013年公司启动“总有一款适合你”全系列设备研发五年计划，
- 至2017年顺利完成总计37个系列产品研发。包括：15个科研型设备；13个生产型设备；9个特种功能镀膜设备。
- 2011-2013
- 10月12日公司在北京海淀清河龙岗路27号成立
- 11月27日签订台设备合同“西北工业大学------反应离子刻蚀机”
- 2008
发展历程
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