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离子束刻蚀机

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MRIBE-300M型：反应离子束刻蚀设备，离子束物理刻蚀能力+化学反应能力+化学辅助刻蚀能力

名称：MRIBE-300M型：反应离子束刻蚀设备，离子束物理刻蚀能力+化学反应能力+化学辅助刻蚀能力

详细信息

应用方向：科研与教学

产品优势：离子束物理刻蚀能力+化学反应能力+化学辅助刻蚀能力

产品配置：

★离子源种类：射频离子源

★刻蚀材料：包括并不限于金属、合金、氧化物、化合物、半导体、绝缘体等。

★刻蚀腔体：高真空系统

★刻蚀不均匀性：±3%-±6%

★刻蚀速率：10-500nm/min（视具体材料与工艺）

★工作台：可调角度，可调距离，包含水冷

★工艺气路：1-6路

★终点检测控制：可选配质谱仪

★操作模式：全自动+半自动控制

设备详细结构与功能，请咨询销售工程师。

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