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离子束刻蚀机

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MRIBE-150型：反应离子束刻蚀设备，离子束物理刻蚀能力+化学反应能力+化学辅助刻蚀能力

名称：MRIBE-150型：反应离子束刻蚀设备，离子束物理刻蚀能力+化学反应能力+化学辅助刻蚀能力

详细信息
应用方向：科研与教学
产品优势：离子束物理刻蚀能力+化学反应能力+化学辅助刻蚀能力
产品配置：

★离子源种类：射频离子源

★离子源口径：Φ150mm

★刻蚀材料：包括并不限于金属、合金、氧化物、化合物、半导体、绝缘体等。
★刻蚀腔体：高真空系统
★刻蚀不均匀性：±3%-±6%
★刻蚀速率：10-500nm/min（视具体材料与工艺）
★工作台：可调角度，可旋转，可调距离，包含水冷
★工艺气路：1-6路
★终点检测控制：可选配质谱仪
★操作模式：全自动+半自动控制
设备详细结构与功能，请咨询销售工程师。
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