应用方向：科研与教学

产品优势：可制备高性能、低损耗的光学薄膜以及堆积密度和低针孔密度的薄膜

设备主要原理与功能：利用主离子源产生的高能离子束轰击置于高真空中的靶材，使其靶材原子溅射出来，并在基底表面重新组合形成薄膜。可同时利用辅助离子源进一步增加镀层应力或进一步二次反应，形成最终所需膜层。

产品配置：

★聚焦束溅射主源：射频离子源栅网直径：Φ16cm；离子能量：100～1500eV；包含热丝电子中和器包括等离子体桥式冷态电子中和器。

★准直束溅射辅助源：射频离子源栅网直径：Φ16cm；离子能量：100～1500eV；包含热丝电子中和器；包括等离子体桥式冷态电子中和器。

★极限真空度：≤6.7×10^-6Pa

★静态升压：停泵关机12小时后真空度≤5Pa

★抽速：短时暴露大气后抽气抽至9×10^-4Pa时间≤25min

★样品台尺寸：Φ8英寸

★样品台转速：支持自转，转速连续可调

★镀膜均匀性：Φ200mm范围内≤±3%

★靶材转换机构：可固定3种不同材质靶材，方便随时切换

★抽气系统：1台分子泵+1台机械泵，分子泵抽速不低于1500L/s，机械泵抽速不低于12L/s

★真空测量系统：1台复合真空计，可测高、低真空

★气路及流量计：工艺气路：6条。快速质量流量控制器：6台

★样品加热系统：基片温度≥600度

★操作模式：全自动+半自动控制 

设备详细结构与功能，请咨询销售工程师。